【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.04.23】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22WS0005

利用課題名 / Title

カンチレバーへのAl2O3膜の成膜

利用した実施機関 / Support Institute

早稲田大学 / Waseda Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

成膜,ALD

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

蓮見 学

所属名 / Affiliation

株式会社ニコン

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

野崎義人,星野勝美

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

WS-004：原子層堆積装置
WS-026：高性能分光エリプソメータ

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ALD装置を用いてAl2O3膜の成膜を行った。成膜対象はAFMカンチレバーであり、チップ先端部へのコーティングを目的として実施した。

実験 / Experimental

弊社で準備した治工具を用いて、AFMカンチレバーと、膜厚の確認のためにSiウェハを配置し成膜を実施した。Figure.1に配置図を示す。
成膜条件は以下の通り：
成膜温度：200℃
サイクル数：100
パルス条件：TMAパルス時間　0.1sec ⇒N2パージ　4.0sec/H2Oパルス時間 0.1sec ⇒N2パージ 4.0sec
 テスト成膜時の膜厚評価は同施設保有の分光エリプソメトリ―（堀場製作所UVISEL）で評価した。

結果と考察 / Results and Discussion

成膜は合計で2回実施しており、その時の膜厚測定結果を下記table1に示す。
またAFMカンチレバーの先端部は別途SEM-EDXにて元素分析を行い、カンチレバーチップ先端部にAl2O3膜が成膜されていることを確認できた。当初の狙い通りカンチレバー先端部への成膜は達成できた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Figure.1 サンプル配置図

Table 1 エリプソメトリ測定によるアルミナ膜厚結果

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

野崎義人様（早稲田大学ナノ・ライフ創新機構）に感謝します。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件