【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.04.28】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22SH0004

利用課題名 / Title

計測機器の性能向上

利用した実施機関 / Support Institute

信州大学 / Shinshu Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

計測機器,パターン形成,集束イオンビーム/Focused ion beam,質量分析/Mass spectrometry

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

佐々木　 画有呂

所属名 / Affiliation

長野計器株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

SH-007：複合ビーム加工観察装置
SH-006：飛行時間型二次イオン質量分析装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

計測機器の性能向上を目的に新規薄膜パターン形成に関する研究開発を行っている。欠陥が無く、より形状再現性の良いパターンの作製を目指す。

実験 / Experimental

薄膜形成について検証試験を行った結果、Cr合金膜を用いたデバイスの出来栄えにバラつきが生じた。このバラつきの要因を調査するため、複合ビーム加工観察装置(FIB)：JIB-4610Fにて、薄膜断面の加工および観察・分析を実施した。

結果と考察 / Results and Discussion

出来栄えの異なる2つのサンプルについてFIBにて断面加工を行い、走査電子顕微鏡(SEM)で断面の観察・分析を行った。
写真1、2に出来栄えの異なるサンプルの断面のSEM像を示す。試料1ではSiN膜とCr合金膜間に隙間があることが確認できた。一方、試料2ではSiN膜とCr合金膜は密着しており、また、SiN膜表面の球状の盛り上がりやCr合金膜の隙間といった、試料1との違いが確認できた。
これ等出来栄えの違いとプロセス条件の対応関係の解析及び工程の最適化検証により、良好なパターンを得るに至った。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

写真1．試料1 断面SEM像

写真2．試料2 断面SEM像

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

マテリアル先端リサーチインフラ事業(ARIM)の機器利用にあたり、ご指導頂きました森本信吾特任教授、小畑美智子研究員、堀田将臣研究員に感謝申し上げます。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件