【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1236
利用課題名 / Title
微細構造を利用した光学素子の研究
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
微細加工,ナノ構造,光学素子,電子線リソグラフィ/ EB lithography,フォトニクス/ Photonics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
穂苅 遼平
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
海津利行
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-115：大面積超高速電子ビーム描画装置
KT-116：近接効果補正システム
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-114：有機現像液型レジスト現像装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
偏光素子として機能するワイヤーグリッド構造を電子ビームリソグラフィベースの加工プロセスで作製し、その光学機能を評価する。
実験 / Experimental
Si基板上に4方向ワイヤーグリッドアレイ（127 nmピッチ）を形成するため、KT-115：大面積超高速電子ビーム描画装置およびその周辺装置を用いたリソグラフィ、現像の条件最適化を技術代行にて行った。4方向ワイヤーグリッドの構造の向きにより入力幅を調整したうえで、レジストにZEP520Aを用いて、Dose量は105 µC/cm2、現像はZED-N50を用いて68 secの条件で行われた。
結果と考察 / Results and Discussion
Si基板上に127 nmピッチの4方向ワイヤーグリッドアレイ（レジストパターン）を形成することができ、構造の向きが0度方向のパターンでは、レジスト幅が約63 nm、構造の向きが45度方向のパターンでは、レジスト幅が約67 nm、構造の向きが90度方向のパターンでは、レジスト幅が約64 nm、構造の向きが135度方向のパターンでは、レジスト幅が約66 nmと、方向間でのばらつきを4 nm以下程度に抑えることができた。このレジストパターンをマスクとしてSiエッチングした後の形状を図1に示す。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 作製した4方向ワイヤーグリッド構造
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件