【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UE5297
利用課題名 / Title
ナノ細孔を含有する薄膜の作製・評価
利用した実施機関 / Support Institute
電気通信大学 / UEC
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
形状・形態観察
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
檜枝 光憲
所属名 / Affiliation
東京医科歯科大学教養部自然科学系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
谷口淳子
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
木村誠二
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,共同研究/Joint Research
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノ細孔中に閉じ込めることで実現される擬1次元ヘリウムの輸送現象を調べるために，配向性多孔質膜中に直接数nm のナノポーラスシリカを合成することを目的としている．ナノ細孔中の輸送現象をより高精度に観測するために，ナノ細孔の孔径がそろっていることと，（ナノ細孔ができていない）大きな空間が残っていないことが必要となる．そこで，合成したナノポーラスシリカ試料の形状を調べるため，電気通信大学の設備（透過電子顕微鏡JEM-2100F）を用いて，観察を行った．
実験 / Experimental
透過電子顕微鏡用の孔開きシリコンナイトライド支持膜（厚さ200 nm，孔の直径200 nm）に直接，ナノポーラスシリカを合成した．その後，試料の加工なしに透過電子顕微鏡（JEM-2100F）で試料の観察を行った．
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1にナノポーラスシリカ試料のTEM像を示す．明るい部分は，シリコンナイトライド支持膜と合成されたナノポーラスシリカとの間に隙間が生じていることを示している．一方，ナノポーラスシリカが合成されている領域では，同程度の大きさの明るいスポットが多数観測された．このような像は，孔径のそろったナノポーラスシリカに典型的なもので，孔径のそろったナノ細孔が合成できていると考えられる．これまで，ナノポーラスシリカ合成のための鋳型として用いてきたポーラスアルミナ膜（公称孔径100 nm）では，ナノポーラスシリカとの間にすきまはできなかったため，今回できた隙間は孔径（200 nmと100 nm）の違い，もしくは，材質(シリコンナイトライドとアルミナ)の違いによるものと考えられる．今後，より小さい孔径の孔開きシリコンナイトライド支持膜を用いて，合成を行うことを予定している．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 TEM image of a fabricated nano porous-silica.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・科研費基盤（C） 「擬１次元ヘリウム系における超流動の臨界速度の研究」
・木村誠二様（研究基盤センター）に感謝します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件