【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.11】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1439
利用課題名 / Title
可視光の選択的反射のための誘電体多層膜作製
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
誘電体多層膜,スパッタリング/ Sputtering,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
村井 俊介
所属名 / Affiliation
京都大学 大学院工学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
諫早伸明,瀬戸弘之
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
可視光を上面のみに異方的に放射し有効利用するための方法の一つに、基板裏面に誘電体多層膜を付けることが考えられる。このような多層構造は周期性に起因する光の強めあい/弱めあいの干渉により、特定の波長の光を反射したり（ブラッグ反射）、特定の波長の光を閉込めたりすることができます。そのための予備検討として本研究では、石英基板上に低屈折率および高屈折率誘電体を交互に積層させた多層膜をスパッタにて作製した。
実験 / Experimental
石英基板上に低屈折率および高屈折率誘電体を交互に積層させた多層膜をスパッタ（KT-202：多元スパッタ装置（仕様Ｂ），キャノンアネルバ(株) EB1100）にて作製した。得られた構造を断面SEMにて観察した。
結果と考察 / Results and Discussion
得られた構造の断面SEM像を図1-(a),(b)に示す。設計通りに低屈折率および高屈折率誘電体を交互に積層されていることがわかった。反射率スペクトルを測定したところ、誘電体多層膜により可視光領域に明確な反射率ピークが現れ、設計したとおりに特定の波長を反射する構造を作製することが出来た。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1-(a)：作製した誘電体多層膜の断面SEM像（低倍率）
図1-(b)：作製した誘電体多層膜の断面SEM像（高倍率像）
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件