【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.11】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1346
利用課題名 / Title
低反射界面開発に向けたナノ構造作製
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
ナノインプリント,光透過フィルタ,フォトニクス/ Photonics,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
村井 俊介
所属名 / Affiliation
京都大学 大学院工学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
岸村眞治
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-108：レジスト塗布装置
KT-239：UVナノインプリント装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノアンテナ構造はサブ波長サイズの金属あるいは誘電体ナノ粒子を周期的に配列させた構造体であり、局在共鳴と光回折の強め合い/弱め合いの干渉により光を閉じ込め/透過させることが出来る。光を閉じ込めることで光吸収フィルタができる一方、光透過を利用すれば波長選択的な光透過フィルタが出来る。本研究では光透過フィルタへの応用を見据えて、ナノインプリントによるナノアンテナ構造の作製を試みた。
実験 / Experimental
EBリソグラフィを用い4インチSiウエハにナノアンテナ構造を作製した。KT-239：UVナノインプリント装置を用いたSmartNILプロセスフローに従い、EVG6200TBNを用いワーキングスタンプを作製し、EVGNIL UV/A2レジストをもちいTEMPAX基板上にナノアンテナ構造を転写した。
結果と考察 / Results and Discussion
図1に作製したSiモールドを示す。このモールドを用いナノインプリントして得られたナノパターンを図2に示す。ナノ粒子の周期構造が正確に転写されていることがわかった。斜め方向からのSEM観察により、ワークングスタンプの深さを反映したナノ粒子高さが得られていることがわかった。光学顕微鏡観察では、モールドの加工面積全体にわたって均一な加工が出来ていることがわかった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1：作製したSiモールドのSEM像
図2：インプリント後のレジストパターンのSEM像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件