【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22JI0040
利用課題名 / Title
塗布型有機EL向け発光材料の開発
利用した実施機関 / Support Institute
北陸先端科学技術大学院大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
質量分析/Mass spectrometry,ナノフォトニクスデバイス
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
アルブレヒト 建
所属名 / Affiliation
国立大学法人九州大学先導物質化学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
宮里 朗夫
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
JI-004：フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴質量分析計
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では高効率な塗布型熱活性化遅延蛍光(TADF)材料の開発を目指して新規なデンドリマー型TADF材料の合成を行った。特にノンドープで高い発光量子収率を目指し、かさ高い置換基を導入したカルバゾール-トリアジンデンドリマーを3種類合成して評価することを目的とした。
実験 / Experimental
アダマンチル、テトラフェニルフェニル、フェニルフルオレニル基を3,6-位に導入したカルバゾールをFriedel-Ctafts反応やDiels-Alder反応を用いて合成した。得られたカルバゾールを内層カルバゾールと結合し、第2世代デンドロンを得た。デンドロンをアクセプターであるトリフェニルトリアジンコアと結合することで目的とするデンドリマー3種を合成した。比較のために無置換のデンドリマーも合成した。
結果と考察 / Results and Discussion
得られた各デンドリマーはノンドープ薄膜状態で500 nm付近に発光を示した。目視ではテトラフェニルフェニル基を導入したデンドリマーのみは青色の発光であり他のデンドリマーは緑色の発光であった。発光量子収率はフェニルフルオレニル基を末端に持つデンドリマーが81％と最も高い値を示した。蛍光寿命測定からTADF成分を含むことも明らかとなった。カルバゾール-トリジアンデンドリマーの発光量子収率とTADF効率の向上にはフェニルフルオレニル基の導入が有効であることが明らかとなった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 池辺 大樹, 中尾 晃平, 古郡 美紀, 中山 泰生, 細貝 拓也, アルブレヒト 建, "嵩高い置換基を有するカルバゾール-トリアジンデンドリマーTADF材料の創製" 第70回 応用物理学会 春季学術講演会(東京), 令和5年3月17日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件