【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.11】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23CT0224
利用課題名 / Title
RFマグネトロンスパッタを利用した酸化ガリウム薄膜の作製
利用した実施機関 / Support Institute
公立千歳科学技術大学 / Chitose IST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials
キーワード / Keywords
酸化ガリウム,ワイドギャップ半導体/ Wide gap semiconductor,X線回折/ X-ray diffraction,赤外・可視・紫外分光/ Infrared/visible/ultraviolet spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
小田 久哉
所属名 / Affiliation
公立千歳科学技術大学理工学部電子光工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ワイドギャップ半導体である酸化ガリウムは次世代のパワーデバイス用の材料として注目されている。酸化ガリウムの作成法はこれまでエピタキシャル成長によるものが一般的であるが、本研究ではより簡便に製膜が可能なスパッタ法による酸化ガリウム薄膜を作製し、X線回折装置による結晶性の評価および分光光度計による発光の評価を行った。
実験 / Experimental
RFマグネトロンスパッタにより作製した酸化ガリウム薄膜を管状炉（１００〜８００℃）によりアニーリングをかけ、X線回折装置により結晶状態の評価を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
RFマグネトロンスパッタにより作製した酸化ガリウム薄膜では酸化ガリウムの回折線が見られなかったが、６００℃以上でアニーリングをかけることでβ型酸化ガリウムの回折線を確認できた。また作製した酸化ガリウム薄膜の発光特性を調べると緑色に発光しており、これは酸素欠陥を利用した発光であると考えられる。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件