利用報告書 / User's Report

【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.06.23】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23CT0137

利用課題名 / Title

深紫外線パルスレーザーによる大腸菌の殺菌効果の検証

利用した実施機関 / Support Institute

公立千歳科学技術大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者)/Internal Use (by ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

赤外・可視・紫外分光/ Infrared/visible/ultraviolet spectroscopy,抗菌・抗ウイルス材料/ Antibacterial/antiviral materials


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

梅村 信弘

所属名 / Affiliation

公立千歳科学技術大学理工学部応用化学生物学科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

大中 一弘,香川 達郎

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

伊勢崎 政美

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術相談/Technical Consultation(副 / Sub),機器利用/Equipment Utilization


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

CT-001:紫外可視近赤外分光光度計


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

 全固体システムの深紫外線レーザー光による殺菌を行う。

実験 / Experimental

 菌の濃度を特定するために、波長600nmにおいて菌液の光学密度を測定した。

結果と考察 / Results and Discussion

 菌数調整が円滑に実施できた。それにより、深紫外線レーザー光による殺菌の定量的なデーター解析が可能となった。また、紫外線による殺菌のメカニズムの解明の手掛かりとなるデータベースを構築することができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

 研究員の方には実験の相談をさせていただき、大変お世話になりました。今年度も引き続き宜しくお願い致します。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. 大中 一弘, 安田 慶也, 村山 幸市, 三浦 莉理, 堀越 秀春, 伊勢崎 政美, 梅村 信弘, “深紫外線パルスレーザー光を用いた液体培地中の微生物殺菌効果に関する研究”, 第 84 回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-A305-7, 2023年9月20日発表, 熊本城ホール
  2. K. Dainaka, Y. Yasuda, K. Murayama, R. Miura, H. Horikoshi, M. Isezaki and N. Umemura, “Inactivation of Bacteria in liquid medium by Pulsed Deep UV Laser Radiation at 266 and 213 nm”, The 12th Asia-Pacific Laser Symposium (APLS2023), CW1-04, Sep. 6, 2023, Hakodate, Japan.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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