【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.07.02】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23SH0014
利用課題名 / Title
計測機器の性能向上
利用した実施機関 / Support Institute
信州大学 / Shinshu Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
厚膜パターン形成,集束イオンビーム/ Focused ion beam
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐々木 画有呂
所属名 / Affiliation
長野計器株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
計測機器の性能向上を目的に新規厚膜のパターン形成に関する研究開発を行っている。欠陥が無く、より形状再現性の良いパターンの作製を目指す。
実験 / Experimental
厚膜形成について検証試験を行った結果、セラミック基板を用いたデバイスの出来栄えにバラツキが生じた。このバラツキの要因を調査する為、複合ビーム加工観察装置(FIB)：JIB-4610Fにて、薄膜断面の加工及び観察・分析を実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
出来栄えの異なる2つのサンプルについてFIBにて断面加工を行い、走査電子顕微鏡(SEM)で断面の観察・分析を行った。写真1, 2に出来栄えの異なるサンプルの断面のSEM像を示す。試料1では電極とガラスの界面に隙間があることが確認できた。一方、試料2では電極とガラスの界面は密着しており、同箇所の材料分析を行う事で組成の違いを把握する事ができた。これ等出来栄えの違いとプロセス条件の対応関係の解析及び工程の最適化検証により、良好なパターンを得るに至った。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
写真1、写真2
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
マテリアル先端リサーチインフラ事業(ARIM)の機器利用にあたり、ご指導頂きました森本信吾特任教授、小畑美智子研究員、堀田将臣研究員に感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件