【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.12】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23OS1083

利用課題名 / Title

メタマテリアルによるテラヘルツ波の高度応用

利用した実施機関 / Support Institute

大阪大学 / Osaka Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

中嶋 誠

所属名 / Affiliation

大阪大学レーザー科学研究所　光量子ビーム科学研究部門

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

OS-106：LED描画システム
OS-115：RFスパッタ成膜装置（絶縁体成膜用）

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

テラヘルツ領域のメタマテリアル・微細人工構造体の作製のために、LEDリソグラフィやスパッタリング装置を利用した。現在、作製構造条件の最適化を実施するなど、微細構造試料の作製を実施している最中である。

実験 / Experimental

LEDリソグラフィやスパッタリング装置を利用し、現在、構造作製の最適化を行うなど、微細構造試料の作製を実施している状況である。

結果と考察 / Results and Discussion

現在、微細構造作製にあたり最適化を行っている状態である。今後テラヘルツ波を用いたテラヘルツ帯の透過応答や反射応答を計測し、計算結果と比較する。メタマテリアル作製よる新規のテラヘルツ応答発現を試み、新機能の創出の実現を試みる予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件