利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.05.20】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23OS1067

利用課題名 / Title

量子技術の実現に向けたコート基板の作製

利用した実施機関 / Support Institute

大阪大学 / Osaka Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions

キーワード / Keywords

フォトニクス・プラズモニクス/ Photonics and Plasmonic


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

高島 秀聡

所属名 / Affiliation

公立千歳科学技術大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術補助/Technical Assistance


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

OS-114:RFスパッタ成膜装置(金属成膜用)
OS-115:RFスパッタ成膜装置(絶縁体成膜用)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

不純物欠陥を含むダイヤモンドナノ粒子(ナノダイヤモンド)は、高感度な量子センサーや量子メモリとしての応用が期待されている。このナノダイヤモンド中の不純物欠陥の発光を増強させるため、イリジウムをコートした基板の利用が報告されている。しかし、イリジウムは高価なため、基板の購入費用が課題となっている。そこで、本研究では、イリジウムに変わる金属を検討するため、スパッタ装置でコーティングが可能な金属をコートした基板の作製に取り組んだ。

実験 / Experimental

作製には、RFスパッタ成膜装置を用いた。1cm角程度に切り出したシリコン基板に、RFスパッタ装置を用いてプラチナを数百nm程度の厚さでコートした。コート後、ナノダイヤモンドを分散させ、共焦点顕微鏡を用いてナノダイヤモンドの発光を測定した。

結果と考察 / Results and Discussion

プラチナをコートした基板にナノダイヤモンドを分散させた場合、未コートの石英基板上にナノダイヤモンドを分散させた場合より発光強度が強くなることがわかった。しかし、不純物欠陥の発光だけでなく、ナノダイヤモンド自身から発生する背景光も強くなることがわかった。今後は、不純物欠陥だけの発光を増強可能な金属の探索が必要になると考えられる。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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