利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.06.12】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23OS1041

利用課題名 / Title

SNDMを用いたシリコン及び化合物半導体の故障解析

利用した実施機関 / Support Institute

大阪大学 / Osaka Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

シリコン基材料・デバイス/ Silicon-based materials and devices,SNDM,走査型プローブ顕微鏡/ Scanning probe microscopy


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

清水 信義

所属名 / Affiliation

ローム株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

和辻 祐規子 様

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術補助/Technical Assistance


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

OS-125:走査型プローブ顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

半導体の不良解析の一環として、走査型非線形誘電率顕微鏡(Scanning Nonlinear Dielectric Microscopy)を用いた半導体不純物プロファイルの断面観察を目指している。試料作製方法は課題番号 22OS1041で報告しているが、サンプル作成の人による差の確認と、SNDMの観察条件の違いによる像の見え方の差を確認する。

実験 / Experimental

①SJ-MOSと②SiC-MOSを断面研磨法で断面出しを行い、SNDMによる観察を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

①SJ-MOS観察結果
SJ-MOSの断面観察結果を図1に示す。
課題番号22OS1041と同等のSNDM像が得られ、断面研磨による試料作製方法は確立できたと考える。

②SiC-MOS観察結果
SiC-MOSに対しSJ-MOSのSNDMと同条件で観察すると像の濃淡が薄いため、観察条件の水準振りを行った。
条件一覧を表1に示す。観察条件のなかで最良の結果が得られた条件5の断面観察結果を図2に示すが、まだ明瞭に観察出来ていない。
SJ-MOSより微細な構造であることが影響している可能性もあるが、観察条件の更なる改善が必要と考える。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1. SJ-MOSのSNDM像 (断面研磨品)



表1. SiC-MOS SNDM観察条件



図2. SiC-MOSのSNDM像 観察条件5 (断面研磨品) 


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)



成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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