【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.20】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23OS1039
利用課題名 / Title
真空紫外光学素子へのスズ汚染サンプルの汚染除去分析
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学 / Osaka Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
ナノ粒子/ Nanoparticles
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
田中 のぞみ
所属名 / Affiliation
大阪大学 レーザー科学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
James Edward Hernandez
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
レーザー駆動プラズマEUV装置内において、ミラー表面にスズによる汚染が堆積しミラー特性を劣化させることが分かっている。本研究では、レーザー研において新たなクリーニング方法を研究する。そのため、EB装置でスズ蒸着を行いサンプルを作成する。また、リファレンスサンプルおよびクリーニング後のサンプルの表面および表面近傍の断面分析を行い、クリーニングの効果を検証する。
実験 / Experimental
スズコートされた材料表面を高強度極端紫外光生成水素ラジカルに暴露し、暴露前後の電子顕微鏡(SEM, OS-102)画像を観測、比較した。
当初の予定では集束イオンビームを用いて断面を切断し、断面観測をする予定であったが、装置の不調により断面観察には至らなかったため、垂直観測の画像からスズ粒子を球と仮定し暴露前後でのスズ体積を求め、差異を導出した。
結果と考察 / Results and Discussion
照射前後で、照射面平均80 nmのスズ除去が確認された。水素ラジカルによるエッチング効果に加え、高強度極端紫外光そのものの照射によるスズ除去効果が現れたと考えられる。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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James Edward Hernandez, Efficient photo-dissociation-induced production of hydrogen radicals using vacuum ultraviolet light from a laser-produced plasma, Applied Physics Letters, 124, (2024).
DOI: https://doi.org/10.1063/5.0186829
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：1件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件