利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.04.03】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NI0815

利用課題名 / Title

多座NHC配位子を有するPt(II)錯体の合成と性質

利用した実施機関 / Support Institute

名古屋工業大学 / Nagoya Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

複合材料/ Compound materials, 単結晶X線回折/ Single crystal X-ray diffraction,資源使用量低減技術/ Technologies for reducing resource usage,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,資源循環技術/ Resource circulation technology


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

籔下 龍之介

所属名 / Affiliation

名古屋工業大学大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NI-008:単結晶X線構造解析装置群


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

高活性かつ失活しにくい錯体触媒を得るため、強い金属-炭素結合が形成されるN-ヘテロ環カルベン(NHC)を配位子として用いた白金(II)錯体の合成を行った。配位子の構造にはキレート効果により安定性と活性を兼ね備えた錯体触媒を与えることが期待される三座ピンサー型配位子を選択した。また、本研究では二種類のキレート環の大きさを持つ錯体を合成し、各種測定によってそれらの特性を明らかにするとともに、その触媒活性に与える影響をヒドロアリール化反応で比較、検討した。

実験 / Experimental

合成した配位子と白金源を塩基性条件下で反応させることで目的錯体を得た。この錯体をアセトニトリルに溶かし、ゆっくりとジエチルエーテルを加えることで無色の単結晶を得ることに成功した。得られた単結晶について、単結晶X線結晶構造解析装置(Rigaku VariMax with DWRAPID/UNIlab)を用いて構造を解析した。

結果と考察 / Results and Discussion

実験で述べたように、合成した配位子と白金源を塩基性条件下で反応させることで目的錯体を作成し、この錯体をアセトニトリルに溶かして、ジエチルエーテルを加えることで無色の単結晶を得た。この単結晶を単結晶X線結晶構造解析装置(Rigaku VariMax with DWRAPID/UNIlab)を用いて構造を解析した結果、錯体は平面四配位構造であることが確認された。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る