【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.09】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NI0811

利用課題名 / Title

ビスNHC配位子を用いたRh(III)錯体の合成

利用した実施機関 / Support Institute

名古屋工業大学 / Nagoya Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

触媒材料/ Catalyst materials, 単結晶X線回折/ Single crystal X-ray diffraction,分離・精製技術/ Separation/purification technology,資源循環技術/ Resource circulation technology

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

内藤 大陽

所属名 / Affiliation

名古屋工業大学　工学部生命・応用化学科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

柳生 剛義

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NI-008：単結晶X線構造解析装置群

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

非対称型二座NHC-Rh錯体において、配位子の電子的効果が触媒性能にどのように影響しているのかは未だ明らかにされていない。そのため当研究室ではパラ位に異なる置換基を持ったアリール基を一方の末端窒素原子上に導入した3種の配位子前駆体を合成し、これに対応したRh(III)錯体の合成を試みている。本研究では置換基にメトキシ基を導入した配位子前駆体を用いてRh錯体を合成し、本装置はこの結晶構造を調べるために利用した。

実験 / Experimental

サンプル瓶に [Rh(cod)I]₂ 99.2 mg (147 µmol)、H₂{C^C-Me,C₆H₄(OMe)-4}(PF₆)₂ 150 mg (268 µmol)、KI 192 mg (1.16 mmol)、AN 12.5 mL、NEt₃ 240 µL (1.73 mmol)加え、50℃で30分攪拌することで錯形成を行った。粗生成物をAN/Et₂Oによる蒸気拡散法で精製を行ったところ赤色の柱状単結晶が得られたため、これを単結晶X線構造解析のサンプルとした。

結果と考察 / Results and Discussion

錯体はわずかに歪んだ八面体配位型構造をとっており、単位格子中に2分子が非対称単位として存在していることが分かった。ANは互いにシス位に、ヨウ化物イオンは互いにトランス位に配位していることが明らかとなった。Rhと配位原子の結合長と、Rh周りの結合角は先行研究で確認された置換基がメチル基のものと大差なく、立体構造上の大きな違いは確認できなかった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図１ OMe基を有した非対称型二座NHC-Rh(III)錯体の結晶構造

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

本装置の利用に際して名古屋工業大学の小澤智宏教授に機器利用の予約スケジュール調整をしていただきました。深く感謝申し上げます。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件