【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.15】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23KT1301

利用課題名 / Title

マイクロトーションテストデバイスの作製

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials

キーワード / Keywords

シリコン結晶,疲労,結晶すべり,ねじり共振器,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,スパッタリング/ Sputtering,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,3D積層技術/ 3D lamination technology

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

神谷 庄司

所属名 / Affiliation

名古屋工業大学　大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

泉　隼人

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

佐藤政司,諫早信明,今井憲次

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-201：多元スパッタ装置（仕様Ａ）
KT-103：レーザー直接描画装置
KT-259：深堀りドライエッチング装置（２）
KT-104：高速マスクレス露光装置
KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

MEMS構造材料としてのシリコン結晶の疲労につながる結晶すべりを透過電子顕微鏡中でその場観察するべく、引張/圧縮応力を独立に負荷することのできるねじり共振器を作製している。

実験 / Experimental

4inchi SOIシリコンウェハを持込み、表面酸化の後にPZTを堆積し、これをエッチングでパタニングすることで、デバイス構造の製作を試みた。

結果と考察 / Results and Discussion

KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置によるPZTのエッチングを可能とする条件を見出すことにようやく成功し、パタニングのプロセスを突破した。これを踏まえ、次の継続課題において残りのプロセスを実行し、デバイスの完成を目指す。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件