【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.29】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23UT0341

利用課題名 / Title

有機膜上の電極パターニング技術の開発

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

デバイス・センサー関連材料,電子顕微鏡/ Electronic microscope

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

田崎 太一

所属名 / Affiliation

JSR株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

寺西亮佑,木村鮎美

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-006：ハイスループット電子顕微鏡
UT-156：集束イオンビーム加工観察装置（FIB）

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

有機EL素子の直上に直接電極パターニングが可能なデバイス構造およびプロセス開発を目的にする。有機膜状にスパッターしたTiAlTi電極の構造および膜質変化をSTEM-EDXを用いて解析した

実験 / Experimental

有機ELの耐熱性の観点からシリコンウエハ上に＜100℃プロセスで成膜した有機膜を作成しERSによるTiAlTiでんきょくを極低温スパッタを行った。本サンプルに対してJIB-PS500(UT-150)を用いSTEM-EDX測定サンプルを作成。各サンプルの厚さは50nm程度を目安にFIBによる薄肉化を行った。得られたサンプルをJEM-2800(UT-006)でSTEMならびにEDXの観察を行った。800kでのSTEMにより電極のグライン状態をEDXにより各レイヤーにおける元素マッピングを行うことで有機膜上に成膜した電極の影響を評価した

結果と考察 / Results and Discussion

有機膜上に形成したTi Al Tiでは有機膜の影響によりモルフォロジーおよび電極中の元素組成に差異があることが確認できた。とくに有機膜の平坦性および耐熱性と AlO、TiOの発生量に大きな相関性が今回のSTEM-EDXの結果から示唆される結果を得られた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件