【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.02】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22MS5029
利用課題名 / Title
X線反射率による多層膜構造評価
利用した実施機関 / Support Institute
自然科学研究機構 分子科学研究所
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
磁性体、多層膜、X線反射率
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
山本 航平
所属名 / Affiliation
自然科学研究機構分子科学研究所電子構造研究部門横山グループ
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
藤原 基靖
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
深さ方向に複雑に構成された磁性体薄膜/多層膜は層間の相互作用に起因して多彩な磁性現象を示す。さらに磁性体の応用先として重要な記録媒体などにおいても多層膜構造を利用して有用な特性が実現されている。このような磁性体多層膜の磁性分布の深さ方向の直接観測による、薄膜中おける磁気構造の発現機構を解明するため、軟X線領域におけるXMCDを利用した反射率XMCD法による測定装置を分子研UVSOR BL4Bに設置し、テスト試料に対して実験を行っている。今回は、高い精度で構造情報を得るために、相補的な測定として硬X線の反射率測定も行った。
実験 / Experimental
Cu KαのX線を用いて実験を行った。試料はSi基板上に作成された金属多層膜である。サイズはおおよそ10㎜×8mmであり、ガラスの筒の上に浮かせた状態でマウントされている。サンプルの長手方向がX線と平行になるようにセットした。
結果と考察 / Results and Discussion
得られた結果を解析し、シミュレーションと照らし合わせることにより、各層の膜厚などのパラメータを得た。得られた膜厚などのパラメータを用いて、軟X線のXMCDでの反射率の計算を行うことにより、磁性の情報を抽出することができることを確認した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件