利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.06.26】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NM5531

利用課題名 / Title

半導体欠陥制御に関する研究

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

スピン制御/ Spin control,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,リソグラフィ/ Lithography,量子効果/ Quantum effect


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

寺地 徳之

所属名 / Affiliation

物質・材料研究機構

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

辻 赳行,真栄 力

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

浦野 絵里

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術補助/Technical Assistance(副 / Sub),機器利用/Equipment Utilization


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-642:電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
NM-636:マスクレス露光装置 [DL-1000]


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ダイヤモンド中の窒素空孔欠陥(Nitrogen-vancancy center:NV センタ)は高感度磁気センサへの応用が期待されている。NVセンタのスピン状態を評価するためには、5 mm角のダイヤモンド中に一様に分布しているNVセンタのうち、特定のNVセンタを複数回測定する必要がある。そこで、同じNVセンタにアクセスしやすいように、ダイヤモンド表面に金属(Au/Ti)のマーキングを行った。

実験 / Experimental

マスクレス露光装置(NM-636)用いて、格子状(格子定数=100 um)に十字のパターンを描画した。電子銃型蒸着装置(NM-642)を用いてAu/Ti(=10 nm/100 nm)を蒸着し、アセトンを用いてリフトオフを実施した。

結果と考察 / Results and Discussion

格子状(格子定数=100 um)に十字のAu/Tiのパターンをマーキングした。パターン形成したダイヤモンドサンプルに対して共焦点顕微鏡を用いて蛍光強度スキャンをおこなった結果、パターンがはっきりと認識できNVセンタの位置を正確に同定できることが分かった。今後は、このパターンをもとにNVセンタのスピン特性の評価を推進していく予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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