【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1267
利用課題名 / Title
発光性ホウ素錯体の機能開拓
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
高分子化学,共役系高分子,発光,有機電子デバイス,電子線リソグラフィ/ EB lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
田中 一生
所属名 / Affiliation
京都大学 大学院地球環境学堂
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
伊藤峻一郎
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
江崎裕子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-101：高速高精度電子ビーム描画装置
KT-107：厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
共役系有機分子は、光吸収、発光特性などの有用な物性を有することから、光電子デバイスや各種イメージング材料として幅広く研究されている。本研究では、固体発光性や高い電子アクセプター性をもつ種々のホウ素錯体からなる共役系分子の応用を志向して、有機電解効果トランジスタの作製や電子線リソグラフィによるパターン作製を試みた。
実験 / Experimental
例えばOFET（有機薄膜トランジスタ：Organic Field-Effect Transistor）の作製は以下のように行った。洗浄したn型シリコン基板をヘキサメチルジシラザン蒸気に暴露し熱処理し、高分子溶液をスピンコート法により製膜した後、この膜に対してCrとAuを順に真空蒸着し電極とした。得られたデバイスの評価は、直前に真空下80 ℃で15時間熱処理を施したのちに実施した。また、電子線リソグラフィーは、ネガ型レジストとしてNEBを用い、ライン＆スペース200 nmのパターン作製を試みた。
結果と考察 / Results and Discussion
レジオレギュラーポリ(3-ヘキシルチオフェン)（rr-P3HT）を用いてOFETを作製したところ、出力特性および伝達特性が先行研究の結果と良い一致を示した。また、伝達特性の傾きからホール移動度を算出したところ、μh = 0.15 cm2/Vsとなり、文献値（0.1 cm2/Vs）と良い一致を示した。一方、NEBによる電子線リソグラフィーパターンを得る条件の最適化を完了した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件