利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.06.24】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23WS0441

利用課題名 / Title

レーザー直接描写の露光・現像条件の確立

利用した実施機関 / Support Institute

早稲田大学 / Waseda Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

電子顕微鏡/ Electronic microscope,リソグラフィ/ Lithography,細胞培養デバイス/ Cell Culture Device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

クー テンホン

所属名 / Affiliation

富士フイルム株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術相談/Technical Consultation


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

WS-016:レーザー直接描画装置
WS-014:紫外線露光装置
WS-011:電界放出型 走査電子顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

目的:UV露光装置を使用し、UV硬化層を設計パターン通りになるように露光処理します。用途:細胞の担体になるように様々のパターンを作成して、実現可否を検証します。実施内容:WS016レーザー直接描画装置MLA150とWS014紫外線露光装置両面マスクアライナMA6で露光処理します。そして、WS011電界放出型走査電子顕微鏡S-4800で表面を観察します。

実験 / Experimental

WS016レーザー直接描画装置MLA150で露光処理後、アルカリ液で現像します。そして、WS014紫外線露光装置両面マスクアライナMA6を使用し、後露光します。処理後、WS011電界放出型走査電子顕微鏡S-4800で表面を観察して、設計したパターン通りになったかどうか確認し、結果を判断します。

結果と考察 / Results and Discussion

設計パターン通りにならなかったため、原因を確認中です。おそらくWS016レーザー直接描画装置MLA150は直線描写と最小露光サイズの制限があると考えます。また、20mm角以上のサンプルはスキャン不可能だと判明しました。メーカーに確認した結果として、柔らかいものでサンプルスキャンする際に、マイクロ単位で変形した部分にカメラが当たり、機械の判断で自動停止になるため、当社のサンプルをMLA150で露光するのが難しいと判断します。MLA150のサンプルの設置の方法と最適化が必要だと考えます。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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