【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.07.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23TT0033
利用課題名 / Title
MEMS応用の粘度測定デバイスの開発
利用した実施機関 / Support Institute
豊田工業大学 / Toyota Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
ナノ厚さ液体膜,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,μTAS,光学顕微鏡/ Optical microscope,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
福澤 健二
所属名 / Affiliation
名古屋大学大学院工学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
佐々木 実,大槻 浩
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TT-006：マスクアライナ装置
TT-011：Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノ厚さ液体の粘度測定実現に向けたマイクロ計測デバイス作製のため，フォトリソグラフィのための露光機（アライナ）およびDeep-RIEエッチング装置を利用した．本研究では，MEMS（Micro Electro Mechanical Systems）技術を用いて，ナノすきまに閉じ込められた液体の粘度測定を試みている．上記の装置を用いて計測用のマイクロデバイスを試作した．
実験 / Experimental
露光機やDeep-RIEエッチング装置を利用し，両面研磨したシリコンウェハの表面に微細構造を作製し，裏面から貫通エッチングすることで，3次元的なマイクロ立体構造を作製した．用意したフォトマスクを用いて，露光条件やエッチング条件を調整して，マイクロ計測デバイスの試作を試みた．
結果と考察 / Results and Discussion
露光機やDeep-RIEエッチング装置の条件出しが必要であったものの，所望の形状・寸法のマイクロデバイスを作製することができた．とくに，これまで試みていなかった，Deep-RIEエッチングにおいて，エッチングサイクルの間にクリーニングサイクルを入れる方法は，エッチング品質向上に有効であったと考える．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 水谷昴琉，平岩広羽，福澤健二，伊藤伸太郎，東直輝，張賀東，”マイクロ集積化デバイスを用いたナノすきまにおけるすきま一定型粘度計測の高精度化”，日本機械学会IIP部門講演会（岡山），令和6年3月4~5日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件