【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.07.01】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23TT0031

利用課題名 / Title

マスクの作成及び電極パタニング

利用した実施機関 / Support Institute

豊田工業大学 / Toyota Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials

キーワード / Keywords

エレクトロデバイス/ Electronic device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,ナノカーボン/ Nano carbon

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

Sengottaiyan CHINNASAMY

所属名 / Affiliation

豊田工業大学　大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

佐々木 実,大槻 浩

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TT-005：マスクレス露光装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

グラフェン、カーボンナノチューブなどのナノカーボン材料やMoS₂などの遷移金属カルコゲナイドは、シリコンに変わる半導体材料として電子デバイスへの応用が期待されている。本テーマでは電子特性を調べるための四端子測定用の電極パターンを形成するためのフォトマスクを作製することを目的とする。

実験 / Experimental

酸化グラフェン（GO)をスピンコーティングし単層GO膜を形成したのち、アルコール熱還元法により、還元型酸化グラフェンを作製する。この上にMoS₂単層膜をPDMS法により顕微鏡下で転写することにより、MoS₂/GOヘテロ構造の作製を行う。この構造をフォトルミネッセンス法や原子間力顕微鏡で評価する。

結果と考察 / Results and Discussion

還元型酸化グラフェン上にMoS₂を堆積し、光学特性の評価を行った。励起子に由来するピークがブルーシフトすること、および有機分子吸着を上回る強度の増強を確認した。これによりMoS₂の光特性が積層構造により制御できることを見出した。今後はマスクを用いて電気特性の測定を行う予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

1. Sengottaiyan Chinnasamy, Masanori Hara, Hiroki Nagata, Hibiki Mitsuboshi, and Masamichi Yoshimura, “Synthesis and Fabrication of hBN-RGO Thin Film for Nanoelectronics Applications”, ICSPM 31, S6-3, 12/8, 2023, Tokyo, JAPAN.
2. Sengottaiyan Chinnasamy, Masanori Hara, Jeganathan Chellamuthu, Hiroki Nagata, and Masamichi Yoshimura, “Synthesis of Hexagonal Boron Nitride Sheets Fabricated on Reduced Graphene Oxide Thin Film Studied for Large-Scale Surface Potential”, Annual Meeting of the Japan Society of Vacuum and Surface Science 2023, 1Gp05, 10/31, 2023, 名古屋.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件