【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.07】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23GA0012

利用課題名 / Title

環状ＤＮＡ計測に向けたマイクロ流体デバイス開発

利用した実施機関 / Support Institute

香川大学 / Kagawa Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

SEM,SU-8,ナノ構造,１分子計測,成形/ Molding,電子線リソグラフィ/ EB lithography

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

平野 研

所属名 / Affiliation

産業技術総合研究所四国センター

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

多納 圭佑,仁宮 滉太,伊藤 拓海,藤井 一覇

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

寺尾 京平,中田 智恵美,竹歳 麻耶

利用形態 / Support Type

（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

GA-001：電子線描画装置
GA-002：マスクレス露光装置
GA-004：デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
GA-013：ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡群
GA-014：白色干渉搭載レーザ顕微鏡

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

環状DNA計測に向けて、DNA分子のピンポイントな物理操作と酵素処理を行うためのマイクロ流路作製に取り組んだ。EB描画もしくはマスクレス露光したマスク上にSU-8構造をパターニングすることで、紫外線露光でマイクロ構造の形成を試行した。

実験 / Experimental

マスクレス露光装置および電子線描画装置により様々なマイクロパターンをアレイ状に有したCrマスクを作製した。SU-8 3005をスピンコートし、本マスクを用いて紫外線露光することでSU-8のパターニングを行い、マイクロ構造アレイを形成した。超臨界洗浄・乾燥装置にて洗浄・乾燥した後、FE-SEM観察を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

作製の結果、最小で200nm程度のCrパターンの形成に成功した。SU-8のパターニング後、一部のピラー構造が現像後の洗浄乾燥工程で芸場が変形している様子が観察されたが、超臨界洗浄・乾燥装置を用いることでSU-8マイクロ構造アレイを一括形成することに成功した。本デバイスをマイクロ流体デバイスと統合することで今後DNA計測に用いることを計画している。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件