【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.27】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23KT1228

利用課題名 / Title

小型原子クロック用ガスセル試作プロセスの習得

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

原子クロック,ガスセル,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,光リソグラフィ/ Photolithgraphy

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

新海 正博

所属名 / Affiliation

TDK株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-203：電子線蒸着装置
KT-104：高速マスクレス露光装置
KT-234：深堀りドライエッチング装置（１）
KT-107：厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

小型原子クロックの研究を目的として、キーパーツのガスセルの小型化を目的としている。今回は、まずガスセルの基本的な試作方法の習得を目指した。

実験 / Experimental

Si基板に対して、フォトリソグラフィにより、ガスセル用のチャンバーの製作を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

目的としていた、2パターンのチャンバー形状に対して、それぞれ2枚ずつの試作を行うことが出来た。DRIEの工程では、熱暴走により設備が停止するトラブルが発生したが、サイクルを適切に分割することで、目的の形状をえることが出来た。本研究は、基礎的な試作プロセスが習得できた段階なので、引き続き研究を継続する。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件