【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1242
利用課題名 / Title
テラヘルツ反射ミラーの作製
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials
キーワード / Keywords
石英基板,テラヘルツパルス,分光技術,共振器構造,メタマテリアル/ Metamaterial,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,電子線リソグラフィ/ EB lithography,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
廣理 英基
所属名 / Affiliation
京都大学 化学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
海津利行,井上良幸
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-203：電子線蒸着装置
KT-115：大面積超高速電子ビーム描画装置
KT-104：高速マスクレス露光装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では、高強度のテラヘルツパルスの電場・磁場成分の自由度を金属メタマテリアルによって増強し、高強度テラヘルツ分光技術を駆使して超高速な電場応答や磁場応答の計測技術を創出すことを目的としている。このために、マスクレス露光装置、真空蒸着装置を利用して、マイクロスケールの金属メタマテリアル共振器構造を作製した。
実験 / Experimental
石英基板に、マスクレス露光装置を用いてメタマテリアル構造をベースとした光共振器の構造パターンを転写し、化学エッチングによりフォトレジストを除去した。真空蒸着装置により、金を蒸着し、目的のメタマテリアル構造を得た。得られた金属構造の磁気光学応答を調べ、発生する磁場、電場強度を測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
マスクレス露光装置と真空蒸着装置を使いメタマテリアル構造を考案し、印可したテラヘルツ光を効率的に磁場に変換するための新しい構造を作製した。電磁波シミュレーション解析により、高強度テラヘルツ磁場を発生できたことを確認した。今後、他の構造を作製することによりさらに、電場・磁場の増強効率向上の最適化を行っていくために実験と解析を進めていく。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件