利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.05.28】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23TU0160

利用課題名 / Title

軟X線分析用可視光カットフィルターの開発 / Development of visible light cut filter for soft X-ray analysis

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

太陽電池/ Solar cell,スパッタリング/ Sputtering,放射光/ Synchrotron radiation


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

木内 久雄

所属名 / Affiliation

東京大学物性研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

松本行示

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-161:自動搬送 芝浦スパッタ装置(冷却型)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

可視光励起状態の太陽電池の状態を調べるために、軽元素の電子状態変化を明らかにするために軟X線分光法が有力な手段である。このとき、軟X線応答検出器を用いる場合可視光応答してしまうことが大きな問題となり、可視光励起状態での計測がこれまで困難であった。そこで、SiN薄膜上にAl薄膜を成膜した複合薄膜フィルターを作成することで、可視光をカットしつつ軟X線を高効率で通し、可視光励起状態での軟X線計測を可能とする。

実験 / Experimental

成膜する基板は、10 mm角のSiフレーム(t = 200 um)の中央に5 mm角のSiNメンブレン (t = 50, 100, 200 nm)を用いて、この上にAlを成膜することで可視光カットの軟X線用フィルターを作製する。成膜するAlの膜厚は、 ①Al:100 nm(検出器が可視光応答するか検討中) ②Al:250 nm(可視光応答しない実績がある膜厚)の2種類行う。作製した可視光カットフィルターを持ち帰り、蛍光X線検出器に取り付け、可視光照射化で蛍光X線検出器の動作試験を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

蛍光X線検出器に作製した可視光カットフィルターを取り付けた場合、いずれの膜厚のフィルターでも検出器が可視光で応答せずに、軟X線計測ができることがわかった。今後、このフィルターを用いて可視光励起状態の太陽電池の各元素の電子状態変化について調べる。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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