【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.28】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23TU0120
利用課題名 / Title
ZMWセルの開発
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ナノインプリント,成形/ Molding,リソグラフィ/ Lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐野 豊
所属名 / Affiliation
東北大学多元物質科学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
松本行示,中尾正史
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本利用の目的は、透明ガラス基板上の金属薄膜に、直径100nm前後の開口部を設けた「ZMWセル（Zero-Mode Waveguide cell）」を製作することである（Fig. 1）。具体的には、蛍光分子でラベル化したタンパクあるいはRNAの溶液をこのセルに入れ、共焦点顕微鏡を用いて、蛍光の相関関数を求めることにより、一分子レベルでの生体高分子のダイナミクスを、従来法に比べて非常に高速・高精度で得ることが可能となる。
実験 / Experimental
UVナノインプリント装置で、レジストパターンの作製を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
予備実験の段階ではあるが、UVナノインプリント法とリフトオフ法を組合わせることで、ZMWセルの製作が可能でるとの見通しが立った。 今後は、メタル成膜前の残渣アッシング条件と、リフトオフ条件、両者のプロセスを最適化する予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Use of the ZWM-cell in the current system
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件