利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.05.17】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23TU0119

利用課題名 / Title

ポーラス金属の開発

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

ナノポーラス金属,集束イオンビーム/ Focused ion beam,ナノ多孔体/ Nanoporuous material


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

和田 武

所属名 / Affiliation

東北大学 金属材料研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

竹中佳生

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-508:集束イオンビーム加工装置
TU-507:集束イオンビーム加工装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

A-B合金をC金属溶湯に浸漬してA-B合金から所定量のBをC溶湯に溶出させてA-B合金のポーラス金属を得る技術; 金属溶湯脱成分の研究に取り組んでいる。今回、この技術を用いてCrMnFeCoNi合金(ハイエントロピー合金)のナノポーラス金属を得ることに成功した。得られたナノポーラス金属の生成機構と粗大化挙動を明らかにするためには透過型電子顕微鏡(TEM)による結晶構造、元素分布状態、欠陥の有無等の評価が必要不可欠である。本利用では、集束イオンビーム加工装置(FIB)を用いて、TEM観察用の試料作製を行った。

実験 / Experimental

ポーラス部分にBiが充填されたCrMnFeCoNiナノポーラス金属について、FIBによりTEM試料作製を行った。加速電圧30 kVで厚み2 µmの薄片を切り出してTEMグリッドに固定後、徐々に5 kVまで電圧を落としながら薄片化を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

ポーラス部分を充填しているBiのエッチングレートはナノポーラス金属部分に比べて早いため、Biの一部に穴が開いたものの、元素分析用の穴のない領域と高分解能観察用のより薄い領域に分けて、いずれの領域も薄片の厚さ 150 nm以下のTEM試料を作製することができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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