利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.05.31】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23TU0089

利用課題名 / Title

小惑星リュウグウサンプルのFIB試料加工と分析

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)その他/Others(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

小惑星リュウグウ, 始原的隕石, 岩石鉱物,集束イオンビーム/ Focused ion beam


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

松本 恵

所属名 / Affiliation

東北大学 理学部

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

兒玉裕美子

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-508:集束イオンビーム加工装置
TU-507:集束イオンビーム加工装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

小惑星リュウグウは太陽系誕生から間もない時に形成した天体を起源に持ち、初期太陽系での物質および天体の形成と進化に関する重要な情報を保存している。本課題では、リュウグウサンプルについて、透過型電子顕微鏡(TEM)、二次イオン質量分析装置(SIMS)分析に向けた試料加工を集束イオンビーム加工装置を用いて行う。作製した試料を分析することにより、初期太陽系における物質、天体の形成進化プロセスについて新たな情報を得る。

実験 / Experimental

集束イオンビーム加工装置(Versa3D, Quanta3D)を用いてリュウグウ粒子から超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡観察(工学部にて実施)に用いた。また、集束イオンビーム加工装置(Versa3D, Quanta3D)を用いてリュウグウ研磨片上の微小領域にイオンビームを照射し、SIMS分析(学外分析)用の目印加工を施した。

結果と考察 / Results and Discussion

FIB加工により、リュウグウ粒子から約100 nm厚の超薄切片(Fig.1)を複数個作製した。またリュウグウ研磨片上の微小領域に低電流のイオンビームを照射することで、表面に施してあった薄い炭素蒸着膜を除去して、膜下の鉱物粒子を露出させ(Fig.2)、SIMS分析時の分析マーカ―(目印)として用いた。これらの試料のTEM, SIMS分析により、初期太陽系における物質の起源と進化について、新たな情報が得られつつある。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1. SEM image of a Ryugu thin section



Fig. 2. SEM image of a marker for SIMS analysis


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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