【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.25】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23KT1205

利用課題名 / Title

リキッドバイオプシーのための診断技術の開発

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials

キーワード / Keywords

SU-8モールド,マイクロ流体デバイス,リキッドバイオプシー,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,流路デバイス/ Fluidec Device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,3D積層技術/ 3D lamination technology

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

赤間 健司

所属名 / Affiliation

シスメックス株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

Hapsianto BenediktusNixon

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

岸村眞治,江崎裕子

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-103：レーザー直接描画装置
KT-110：レジスト現像装置
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-119：両面マスク露光&ボンドアライメント装置
KT-210：ドライエッチング装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

組織を採取する検査（バイオプシー）は、患者にとって大きな負担である。我々は、血液などの検体中に存在する細胞、タンパク質、遺伝子などを詳細に分析することで患者への負担の少ない検査（リキッドバイオプシー）を実現することを目指している。本課題では、マイクロ流体デバイスを用いたリキッドバイオプシーの実現を目指し、高さの異なるSU-8モールドを作製した。

実験 / Experimental

高さの異なるSU-8モールド作製プロセスの概要を図1に示す。
① フォトマスクの作製：レーザー描画装置A03を用いてマスクブランクスにパターンを描画した。TMAHで現象し、エスクリーンS-24でCrエッチングを行った。マスクブランクスのレジストをアセトンで除去し、SPM洗浄装置A11で洗浄した。計2パターンのフォトマスクを作製した。
② SU-8 3050塗布：シリコンウエハをSPM洗浄装置で洗浄し、110℃/3分ベークした。SU-8 3050を塗布し、スピンコートした。95℃/15分ベークし、30分徐冷した。
③ 露光・PEB：両面マスク露光装置A19、及びマスク1を用いてSU-8 3050塗布ウエハを露光した。65℃/2分、95℃/5分の露光後加熱（PEB）を行った。
④ SU-8 3010塗布：SU-8 3010を塗布し、スピンコートした。95℃/15分ベークし、30分徐冷した。
⑤ 露光・PEB：両面マスク露光装置A19、及びマスク2を用いてウエハを露光した。65℃/2分、95℃/5分のPEBを行った。
⑥ 現像：PMシンナー（PGMEA）を用いて現像した。200℃/60分のベークを行った。

結果と考察 / Results and Discussion

現象後のフォトマスクを光学顕微鏡で計測した結果、設計通りの10-200 µｍ幅のパターンが形成されていることを確認した。２種類のフォトマスクを用いて、２段階のSU-8塗布・露光を行うことで、目標とする20-40 µmの膜厚の形成を確認した。本モールドにPDMSを流し込み、硬化した後，モールドから剥離した。本工程を3回繰り返した後、光学顕微鏡でモールドを観察した。その結果、モールドのパターンに損傷は観察されなかった。以上より、繰り返し利用可能な高さの異なるSU-8モールドの作製に成功した。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図1　高さの異なるSU-8モールドの作製プロセスの概要

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件