【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1163
利用課題名 / Title
周期構造による波長放出に関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
表面処理,形状・形態観察,電子顕微鏡/ Electronic microscope,スパッタリング/ Sputtering,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
植松 裕之
所属名 / Affiliation
星和電機株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
川添公美子
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
江崎裕子,岸村眞治,井上良幸,諫早伸明,瀬戸弘之
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-103：レーザー直接描画装置
KT-234：深堀りドライエッチング装置（１）
KT-202：多元スパッタ装置（仕様Ｂ）
KT-301：超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
今後益々進んでいくIoT化に対応するためには、更なる高機能化を実現する新技術が必須である。本研究では、部材に周期構造を持たせることで特定の波長が放出されるような制御を達成することを目的とする。光波長を制御するためにはnmオーダー付近の微細な加工ができる特殊な装置が必要である。京都大学ナノテクノロジーハブ拠点の加工設備を利用して達成した。
実験 / Experimental
■加工 （京都大学ナノテクノロジーハブ拠点）：パターン間の距離が狭いためステッパー露光機を用いてパターンを描画し、深掘りドライエッチング装置を用いてSiにパターン(周期構造)加工を行った。多元スパッタ装置を用いて、Si表面に導体を成膜させた。
■測定 （他機関）：部材の波長評価を行い、「周期構造を持たせることで放出波長の制御が可能か」、「材料の違いが制御に影響するか」を確認した。
結果と考察 / Results and Discussion
波長の測定結果より、周期構造(Fig.1)を持たせることで波長放出率が変化することが分かった(Fig.2)。一般的に、導体は吸収率が低い物質として知られているが、周期構造により一部の波長を増幅できることが分かった。これにより周期構造を利用することで、放出波長をある程度、制御できると考えられる。
今回の実験を通して、放出波長を制御する上での基礎となる知見が得られた。今後は、自在に制御するための知見獲得を目指していきたい。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 周期構造の1例
Fig.2 波長測定結果例
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
京大ナノハブ拠点のステッパー装置故障に際して、京大ナノハブの技術スタッフの方からつくば産技研へご手配頂いた
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件