【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1142
利用課題名 / Title
PZT薄膜の特性把握
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
PZT薄膜,カンチレバー,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,リソグラフィ/ Lithography,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,ダイシング/ Dicing,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高橋 徹
所属名 / Affiliation
京セラ株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
堂込一輝,及川貴弘,大友喬史,李健
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-203：電子線蒸着装置
KT-118：高圧ジェットリフトオフ装置
KT-119：両面マスク露光&ボンドアライメント装置
KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置
KT-218：レーザダイシング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
PZT薄膜の圧電定数と絶縁耐圧を把握する目的で、カンチレバーを作成する。Siウェハ上に下部電極/PZT/上部電極を成膜し、レジスト形成、エッチングによりパターニング後、ダイシングを行う。ただし、下部電極、PZTは外部で成膜済みのものを持ち込む。完成したカンチレバーは京セラ社内に持ち帰り、圧電定数と絶縁耐圧の計測を行い、評価完了とする。
実験 / Experimental
8インチウエハに対して露光、エッチングを行い、SEM観察にて形状確認を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
エッチング前のレジストテーパー角度68°と同様のテーパー角度をエッチング後のPZT層でも得られていることを確認した。PZT側面にポリマーは見られなかった。エッチング前とエッチング後のレジストテーパー角度が同様であることは、レジストとPZTの選択比が１に近いことが考えられる。難エッチング材と言われているPZTのポリマーが見られないことで、レジスト剥離の容易さが予想される。PZTのポリマーはレジストテーパー角度がついていることで側壁への付着量が少なくなり、また付着したポリマーもArイオンのアタックで再除去されやすくなったと推測する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig1a.エッチング前の断面SEM像
Fig1b.エッチング後の断面SEM像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件