【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.25】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1094
利用課題名 / Title
電子顕微鏡内での地球惑星物質の破壊実験
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials
キーワード / Keywords
電子顕微鏡, 微小電子機械システム（MEMS）,ナノスケール実験,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
三宅 亮
所属名 / Affiliation
京都大学 大学院理学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
石坂大和
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
佐藤政司,瀬戸弘之,江崎裕子,高橋英樹
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術相談/Technical Consultation
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-103：レーザー直接描画装置
KT-110：レジスト現像装置
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
地震という活動は、地球という半径6400 kmの巨大な機能材料内部で起きる大規模破壊現象であり、理学及び防災上の理由から活発に研究が行われている対象である。地震を伴う脆性破壊メカニズムを解明するためには、もっと微視的なところから何が起こっているのかを知る必要があるそこでナノスケールでの観察が可能な電子線と近年幅広く用いられている微小電子機械システム（MEMS）を用いた加圧高温変形その場実験装置によるナノスケール実験という革新的実験を新しく開発することにより、高圧下での地球惑星物質（本研究ではオリビン、(Mg,Fe)2SiO4を想定）の破壊の物理を、ナノスケールの動的挙動からの解明を目指すことを目的とした予備実験を開始するものである。
実験 / Experimental
電子顕微鏡内での破壊実験を行うための微小電子機械システム（MEMS）作製のため、時間的制約よりSOIウエハを購入し、MEMSデバイス用のマスクを作製した。
結果と考察 / Results and Discussion
電子顕微鏡内での破壊実験を行うための微小電子機械システム（MEMS）作製のため、レーザー描画装置を用いてMEMSデバイス用のマスクを作製した（図1参照）。図1に示すように、きれいにマスク作製をすることができた。次課題では、このマスクを用いて、実際のMEMS作製を行う予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 作製したMEMSデバイス用マスク
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件