利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.03.27】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23KT1043

利用課題名 / Title

生体分子,細胞,組織操作のためのマイクロ・ナノデバイス開発

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials(副 / Sub)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials

キーワード / Keywords

バイオ&ライフサイエンス,オンチップ腎毒性評価,リソグラフィ/ Lithography,3D積層技術/ 3D lamination technology


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

髙田 裕司

所属名 / Affiliation

京都大学 大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

久保亜樹

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-105:両面マスクアライナー


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

腎近位尿細管上皮組織は,多彩な薬物トランスポータにより薬剤が細胞内に緩徐に蓄積し,やがて腎毒性が発現する。本研究では,この腎毒性をリアルタイムに評価することを実現するため,インピーダンス計測可能な生体模倣システム(MPS)を開発した。MPSに腎障害を引き起こす抗がん剤シスプラチンを導入し,インピーダンスから経上皮電気抵抗(TEER)および静電容量を抽出して腎障害評価を実施した.

実験 / Experimental

Si基板上にネガ型フォトレジストをスピンコートした.次に,両面マスクアライナ露光装置を用いて流路パターンを転写して現像した.この基板を鋳型としてPDMSにより流路を持つシートを作製した.
MPSは,2対のITO電極を配置したガラス基板,PDMSシート,PETの多孔質膜から構成される(Figure 1A).近位尿細管上皮細胞を上側チャネルに播種して10日間培養した.その後,100 μMのシスプラチンを上側あるいは下側チャネルに導入した.

結果と考察 / Results and Discussion

TEER値は,20時間後の値に着目すると,上側チャネルの場合は54%に低下し(Figure 1B左側,オレンジ線と緑線の交点),下側チャネルの場合は11%に低下した(Figure 1B左側,青線と緑線の交点).静電容量は,上側チャネルの場合は34時間後に上昇し(Figure 1B右側,オレンジ矢印),下側チャネルの場合は16時間後に増加し始めた(Figure 1B左側,青矢印).

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Figure 1 A. Device components. B. TEER and capacitance recorded during introduction of cisplatin at a concentration of 100 μM to apical and basal sides of RPTEC monolayers independently. N = 3 devices.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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