利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.06.20】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NU0420

利用課題名 / Title

イネにおける気孔開閉を駆動する細胞内のカリウムイオン局在の解析

利用した実施機関 / Support Institute

名古屋大学 / Nagoya Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion(副 / Sub)次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials

キーワード / Keywords

カリウムイオン局在,電子顕微鏡/ Electronic microscope


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

杉浦 大輔

所属名 / Affiliation

名古屋大学大学院 生命農学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

片岡 優衣

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

林 育生

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NU-004:走査型電子顕微鏡(SEM)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

カリウムイオン (K+) は、気孔の開閉を制御する重要なイオンであり、その局在を解析することで、気孔の機能メカニズムの解明に役立つことが期待される。本研究では、イネの野生型および気孔開閉に関連した遺伝子の変異体を材料とし、気孔におけるK+の局在を、走査電子顕微鏡 (SEM) とエネルギー分散型蛍光X線分析 (EDS) を用いて解析した。

実験 / Experimental

ガス交換測定システムにより光合成速度や蒸散速度を測定したイネの野生型および変異体の葉を速やかに凍結し、SEM観察前にオスミウムコーティングを行った。その後、SEM-EDSを用いて、葉の表面の気孔を形成する細胞においてK+ の分布を分析した。

結果と考察 / Results and Discussion

SEM-EDS分析の結果、野生型および変異体において、気孔を形成する細胞内にK+ が確認された。しかし、同じ個体であっても気孔ごとにその値には大きなばらつきがあり、野生型と変異型の間に大きな差は見られなかった。今後は栽培条件やサンプルの固定方法およびSEM-EDS分析の手法をより詳細に検討することで、気孔開閉制御とK+の細胞内局在との関連性が明らかになることが期待される。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. 片岡優衣, 三屋史朗, 杉浦大輔 ”NHX1遺伝子が変動光・乾燥条件下のイネの水利用特性に与える影響の解析” 日本作物学会第257回講演会 (三重) 2024年3月28日
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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