【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UT0161
利用課題名 / Title
酵素内包高分子ハイドロゲル粒子およびファイバーの創成と酵素システムを用いた環境中における有害物質の除去
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials
キーワード / Keywords
電子顕微鏡/ Electronic microscope,ナノ粒子/ Nanoparticles,高機能ハイドロゲル/ Highly functional hydrogel
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
李 進才
所属名 / Affiliation
東京大学 大学院工学系研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
寺西亮佑
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
酵素とは大きさ数ナノ〜数十ナノのタンパク質であり、触媒として幅広く用いられている。酵素はタンパク質として過酷な環境下での失活は課題である。そこで、酵素を高分子ハイドロゲルに内包することで、耐久性と活性を上げる研究を行っている。本研究では作製するハイドロゲルの構造をを透過型電子顕微鏡 (TEM)によって観察する。
実験 / Experimental
ペルオキシダーゼ（HRP）をモデル酵素とし、両性イオン構造と細胞膜リン脂質模倣のホスホリルコリン基をもつMPC（2-Methacryloyloxyethyl phosphorylcholine）を用いて重合させることで、HRPをMPCゲルに内包したハイドロゲル粒子を作成した。HRPとMPCハイドロゲル粒子のサンプルを染色した後、TEMによる観察を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
図１に示すように、酢酸ウラン染色後のHRPは約7nm程度の直径を有していた。一方で、図２に示すように、作製したMPCゲルは大きめなサイズを有し、50nm程度の直径まで上がったことがわかった。以上の結果により、MPCによるHRPを内包することができるのが示唆された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ HRP
図２ MPCに内包されたHRP
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
東京大学の共用設備マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）に感謝申し上げる。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件