【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.23】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NU0245
利用課題名 / Title
カーボンインプリントモールドの試作
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学 / Nagoya Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ナノインプリント,電子線リソグラフィ/ EB lithography,ナノカーボン/ Nano carbon
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高橋 千春
所属名 / Affiliation
微細加工デザイン
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
Si基板上に成膜したカーボン膜についてインプリントモールドの作製プロセスを検討する。成膜(ハードマスク, SiO2等)、露光(EB, 光)、ドライエッチングのプロセス最適化を行い、ラインパターンにおいてアスペクト比5以上を目標とする。今年度は電子ビーム露光技術についてトレーニングを受講して作製プロセスの基盤とした。
実験 / Experimental
電子ビーム露光技術における要素プロセス(機器、装置)についてトレーニングの受講とマニュアルでの確認により手順および方法を習得した。
・レジスト塗布：基板前処理、ホットプレート、スピンコータ
・描画プログラム作成：J01、 JDF、 SDF
・描画：カセット搬送、コラム調整、フォーカス/非点調整
・現像：恒温槽、現像時間
結果と考察 / Results and Discussion
実験(トレーニング)におけるテストパターンの主な作製条件は、NU-206の標準条件(マニュアル)を参考にして以下の通りとした。
・基板：Si, 10mm×10mm
・パターン：L&S(300nm, 500nm, 1000nm)、長さ2mm、100本程度
・レジスト：ZEP520A (HDMS表面処理)
・描画：100KV、2nA、200µC/cm2
・現像：25℃キシレン、40sec
光学顕微鏡によるパターン観察によりL&Sテストパターンの形成を確認できた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
謝辞
名古屋大学・未来材料・システム研究所、本田特任助教様には、電子ビーム露光プロセスにつきまして、貴重なご助言を頂き感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件