【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.02】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23GA0113
利用課題名 / Title
EBリソグラフィを用いた教育用回折格子に関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
香川大学 / Kagawa Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
理科教育,電子線リソグラフィ/ EB lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
川染 勇人
所属名 / Affiliation
香川高等専門学校
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
土井彩乃
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では光学を学ぶ上で極めて重要な基礎知識であり，校内の半導体製造設備で作製が可能な点から回折格子に着目した。フォトマスク製造過程を用いて回折格子を作製し，現象を観察することで分光の原理および半導体製造課程への理解を促す教育ツールの開発及びその有効性の評価を行う。
実験 / Experimental
電子線描画装置によりフォトマスクを作成して、回折格子を作製した。
結果と考察 / Results and Discussion
本研究ではフォトマスク製造プロセスを用いて回折格子を作製し，分光の原理への理解を促す教育ツールの開発を行う。電子線描画装置を用いて回折格子を作製し，市販のレーザーポインターにより回折格子として有効に機能することを示した。また，レジストを反転させた場合にも同様の回折結果が得られることを確認できた。今後は本研究の実験テキストを作製し，公開講座を開講する予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- ○ A. Doi, H. Kawazome, et. al., “Development of an educational grating using a photomask and of an educational scenario using it”, MALAYSIA-JAPAN 2 0 2 4 International Conference on Nanoscience, Nanotechnology and Nanoengineering 2024, March 2-4, 2024, Shah Alam Selangor, Malaysia.O10.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件