【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23GA0106
利用課題名 / Title
光殺菌効果増強基板の開発
利用した実施機関 / Support Institute
香川大学 / Kagawa Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,電子線リソグラフィ/ EB lithography,フォトニクス/ Photonics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
原口 雅宣
所属名 / Affiliation
徳島大学ポストLEDフォトニクス研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
渡辺智貴,白山優斗
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
タッチパネルやドアノブなど不特定多数が触れるものを紫外線によって殺菌やウイルス不活化を行うことは，コストや人体への安全性確保の点から一般的ではない．プラズモン共鳴による光増強効果を利用し低光パワーでその作用を発揮できれば現在の深紫外LEDを光源とする組み込み機器開発につながる．そこで，プラズモン共鳴によって深紫外光の光増強効果を生じて，一般機器表面に利用可能性がある表面構造を開発する。
実験 / Experimental
大面積をナノ加工可能な微小球リソグラフィー技術によって石英基板表面に窪みをつけ，直径20 nm から 100 nm，高さ20 nmから50 nmの半埋め込み型のアルミニウム微細構造を作製した．電子顕微鏡による観察のほか反射及び透過スペクトルを計測し，数値シミュレーションの結果と比較し，深紫外域でプラズモン共鳴を起こす構造となっているかを確認した．
結果と考察 / Results and Discussion
表面上の密度は低かったが，ナノメートルサイズの半埋め込み型の構造体の作製に成功した．ただし，マクロな光学特性や殺菌能（不活化能）を計測できる密度ではなかった．加工条件の最適化を行うと同時に加工プロセスの見直しが必要である．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 白山 優斗、栗本 一輝、渡辺 智貴、岡本 敏弘、山口 堅三、上番増 喬、馬渡 一諭、高橋 章、原口 雅宣，“ナノサイズ金属埋め込み円柱構造を大面積で作製する手法の検討” 第７１回応用物理学春季学術講演会（東京），令和６年３月２２日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件