利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.04.08】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NM0130

利用課題名 / Title

金銀基合金における光学誘電率評価

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

貴金属系合金/ Noble metal alloys


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

芦澤 好人

所属名 / Affiliation

日本大学 理工学部電子工学科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

石川 翼

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

大井 暁彦,澤部 由美子

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-655:分光エリプソメーター [M2000]


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

表面プラズモン励起用の金属材料には、通常、金、銀、銅などが用いられ、その誘電特性は元素種に依存して離散的である。しかし、レーザ等の特定の波長においてより優れた誘電特性を得るための合金系の検討は限定的である。そこで、本課題ではAgにAlを微量置換した合金の誘電特性の評価を目的とする。

実験 / Experimental

Si基板上に作製した500nm程度のAg-Al合金薄膜に10nm程度のSiO2層を保護層として積層した試料について、分光エリプソメータM2000を用いて、薄膜試料の波長250~1000 nmの誘電率計測・評価を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

分光エリプソメータにより測定した屈折率、消光係数を用いて、ガラス基板/Ag-Al合金薄膜の二層構造におけるKretschmann配置における反射率の角度依存性を計算した。結果を図1に示す。それぞれの波長において反射率が最小になる最適膜厚における曲線を、Ag-Al合金ごとに示した。Al置換量の増加に伴い、極小値を示す角度が単調に増加し、短波長側での損失が大きくなることが明らかになった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1.Kretschmann配置におけるガラス基板/Ag-Al合金薄膜の反射率の角度依存性


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

物質・材料研究機構の大井暁彦様、澤部由美子様には深く感謝します。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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