利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.05.25】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NM0078

利用課題名 / Title

レーザー照射による石材の影響を調査するためのXRD測定・解析

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

非金属系構造材料/ Non-metallic structural materials,資源使用量低減技術/ Technologies for reducing resource usage,X線回折/ X-ray diffraction


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

羽澤 裕次郎

所属名 / Affiliation

新幹線メンテナンス東海株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-204:多目的X線回折装置_Cu_SSL


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

駅床面に使われている石材の汚れを除去する洗浄作業において、レーザークリーニングを活用した場合、石材自体に影響を与えないかを確認する。 駅に使われている石材3種類に対し、以下の試験を実施する。  ・石材の成分分析  ・レーザー照射後の凹凸や変色の原因分析及び、照射前後の成分比較 ※石材の種類  ①黒御影石ジェットバーナー加工 産地:中国山西省  ②白色花崗岩水磨き加工 産地:中国福建省  ③白色花崗岩本磨き加工 産地:中国福建省

実験 / Experimental

X線回析装置:リガク製SmartLab3 X線波長・出力:CuKa(1.5418Å) 40kV、30mA 温度・相対湿度:24℃、64% 走査範囲(2θ):5~100° 走査速度:2.0°/min(未照射試料)、0.5/min(照射試料) 試料設置方法:標準型ゴニオヘッドにガラス試料ホルダーを重ね、試料高さを調整 データ解析ソフト:リガク製PDXL2 定性用XRDデータベース:ICDD2019  定量法:Relative Intensity Ratio method

結果と考察 / Results and Discussion

レーザーを照射した石材を分析した結果、以下内容が確認できた。  ・レーザー照射後の試料には高温化で合成されるガーネット相(Pyrope)が存在する。 ・強度が低下している(結晶性の低下によるもの)。 このことから、レーザーの照射条件によっては、表面の汚れを落とすだけでなく、石材そのものを変質、劣化させるということがわかった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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