【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.21】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23UT1172

利用課題名 / Title

微細加工技術を用いた生体模倣システムの作製

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

光リソグラフィ/ Photolithgraphy,細胞培養デバイス/ Cell Culture Device

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

梶 弘和

所属名 / Affiliation

東京医科歯科大学生体材料工学研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

梨本　裕司,堀　武志,土屋　香碧,許　家誠,稲垣　皓介,佐藤　優輝

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-504：光リソグラフィ装置MA-6

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

微細な流路を有するデバイス内、あるいは、微細なパターンを有する基板の上で細胞を培養し、その細胞の機能を制御することを目的とした研究を行っている。そのデバイスや基板を作製するためのフォトリソグラフィーを東京大学の設備を利用して行った。

実験 / Experimental

シリコンウエハをH₂O₂/H₂SO₄混合溶液で処理し、その後洗浄した。ウエハに感光性樹脂SU-8 2100あるいはSU-8 3050をスピンコートした。その後、60℃ 1 min → 110℃ 50 min → 65℃ 1 min → 室温 >30 minの処理を行った。マスクアライナー MA6を使用して、SU-8を塗布したウエハにフォトマスク上のパターンを転写した。その後、65℃ 1 min→95℃ 5 min→65℃ 1min→ 室温 >5 minの処理を行った。SU-8 developer （あるいはPMシンナー）で現像した後、イソプロパノールとエタノールで洗浄した。最後に加熱処理（たとえば150℃ 10 min）をして鋳型を完成させた。

結果と考察 / Results and Discussion

ウエハの上に微細なSU-8のパターンを形成させることができた。幅50-200ミクロン程度、厚み100-200ミクロン程度のパターンを作製することができた。 SU-8 developer （あるいはPMシンナー）による現像は、2度行うことにより、より綺麗な結果が得られることが明らかになった。別の条件で作製したデバイスの例を図1に示す。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図１　作製したデバイスの例

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

1. 許家誠, 堀武志, 梨本裕司, 吉田昭太郎, 梶弘和, 細胞培養肉作製に向けたバイオマスメッシュシートの開発 , 化学とマイクロ･ナノシステム学会 第48回研究会（CHEMINAS 48） 2023年11月7日

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：1件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件