【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NM5158
利用課題名 / Title
CVD法で合成した遷移金属ダイカルコゲナイドの特性評価
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,原子薄膜/ Atomic thin film,原子層薄膜/ Atomic layer thin film
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
サクマ ヨシキ
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
小野 祐樹
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
渡辺 英一郎,池田 直樹,大井 曉彦
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-604：マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]
NM-638：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
NM-642：電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
NM-614：CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
MOCVD法で成膜した遷移金属ダイカルコゲナイド（MoS2）の単分子層膜の電気特性を調べるため、バックゲート型の電界効果トランジスタの試作（FET）を行う。
実験 / Experimental
MOCVDで成膜したMoS2単層膜を100 nm-SiO2/n+型Si基板上に転写したウエハを準備し、これにマスクレス露光装置、O2プラズマアッシャー、EB蒸着装置を使ってバックゲート型のFET試作を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
フォトリソグラフィやプラズマエッチングの条件出しを何度か実施しながら、レジスト剥離工程の改良を進め、最終的に図1の写真に示すようなトランジスタ試作に成功した。図2は典型的なトランジスタチャネル部の拡大図である。今回の試作では、約5ｍｍ角の領域にチャネル長1.5μｍ～5μｍ程度のデバイスを数十個作製できた。また、試作したデバイス全てが室温で正常にトランジスタ動作することも確認した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１： 試作したMoS2単層膜のバックゲートトランジスタの光顕像
図2： チャネル領域の光顕像（拡大図）
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件