【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NM5156
利用課題名 / Title
微細構造を用いたサーマルフォトニクスの研究
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,電子線リソグラフィ/ EB lithography,フォトニクス/ Photonics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
石井 智
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
Nicholaous Tanjaya,Ilario Bisignano,Yuk Ming Wong
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
池田直樹
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-635：電子ビーム描画装置 [ELS-BODEN100]
NM-641：スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #2]
NM-642：電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
NM-649：FE-SEM+EDX [SU8230]
NM-643：電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
非平衡状態のふく射の観測とその学理構築を行うことが現状の本課題の目的である。量子井戸あるいは二次元材料中に電圧を印加し、ホットエレクトロン由来のふく射を金属微細構造で遠方場に取り出す。施設を使った実施内容は、電子線リソグラフィによる微細加工、電極の成膜、SEM観察、である。
実験 / Experimental
量子井戸構造の上に、電子線リソグラフィによって金属の微細構造を作製した。量子井戸に電圧を印加し、非平衡状態でのふく射の測定を赤外分光装置によって行った。
結果と考察 / Results and Discussion
微細加工はSEMでの観察結果から、設計通りにミクロンスケールの構造が出来ていることが確認できた。赤外分光ではロックイン測定を用いたステップスキャンにより電圧に同期したふく射を測定しようとしているが、測定系自体からのふく射の寄与が大きく、試料からのふく射を測定できていない。今後は測定系の改良および新たな光学系の構築を行い、微弱な非平衡ふく射を測定できるようにする。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件