【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.26】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23HK0123
利用課題名 / Title
アニール用コーティング基板の作製
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
スピントロニクスデバイス/ Spintronics device,スパッタリング/ Sputtering,量子コンピューター/ Quantum computer
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高島 秀聡
所属名 / Affiliation
公立千歳科学技術大学 電子光工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
松尾保孝
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノダイヤモンド中に不純物欠陥を形成するには、高温真空中でアニール処理を行う必要がある。しかし、酸化物基板上にナノダイヤモンドを直接分散させた場合、基板との反応によってアニール処理中にナノダイヤモンドが消失してしまう。そこで、本研究では、酸化物基板上にスペーサーとなる金属薄膜をコーティングすることで、この課題の解決を目指す。
実験 / Experimental
結果と考察 / Results and Discussion
多元スパッタ装置を使用し、サファイア基板上にプラチナ（Pt）をコーティングした。その後、この基板を真空環境下で1170度に加熱した。加熱処理後、光学顕微鏡を用いて基板の表面状態を観察した。図1に加熱処理後の光学顕微鏡像を示す。熱処理により透明度があがり熱処理によりPtが基板から剥がれていることがわかった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
アニール処理したPtコート基板の写真
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件