【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.07.03】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23HK0069

利用課題名 / Title

原子層堆積法を用いた光デバイスへの機能性薄膜の形成

利用した実施機関 / Support Institute

北海道大学 / Hokkaido Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,ALD,原子薄膜/ Atomic thin film,フォトニクス/ Photonics

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

上原 日和

所属名 / Affiliation

自然科学研究機構 核融合科学研究所 高温プラズマ物理研究系

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

松尾保孝

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術相談/Technical Consultation（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

HK-616：原子層堆積装置
HK-617：原子層堆積装置（粉末対応型）

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

赤外光を用いた検出としてファイバーを用いたデバイスの開発が社会実装として必要となる。赤外透過のフッ化物ファイバーは耐水性に難があるため、新規耐水コー ティング技術を開発を検討してきた。これまで半導体分野で用いられている原子層堆積法（ALD: Atomic Layer Deposition）による緻密成膜の実験を行い有効性についての議論を行ってきたが、新たにファイバーへの機能性追加を考える上でフォトニック材料として期待されている窒化物材料の成膜が可能かどうかを検討した。

実験 / Experimental

結果と考察 / Results and Discussion

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件