【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0323
利用課題名 / Title
磁気ハイパーサーミアにおける磁性ナノ粒子の磁気特性について
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
磁気記録材料,微粒子,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,成形/ Molding
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐伯 龍星
所属名 / Affiliation
青山学院大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
大塚 照久
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
自作の磁性ナノ粒子が超常磁性体の確認．共沈法において攪拌温度変更とpH変更による飽和磁化への影響の調査．
実験 / Experimental
温度300Kで一定のまま外部磁場を-5T～5Tに変化させて実験を行った．
AT-068磁気特性測定システム（MPMS）で磁気特性を測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
攪拌温度をパラメータとした場合40℃で作成された粒子が最も飽和磁化の値が高く，攪拌温度が高くなる程飽和磁化値は減少していく傾向になることが分かった．これは攪拌温度が高くなる程粒径が小さくなることが原因だと考えられる．攪拌温度が高くなる程粒子間での衝突回数や活性化エネルギの増加により，粒子の粒径は小さくなる．そして作製した磁性ナノ粒子は超常磁性体を示すことから飽和磁化は粒径に依存することから，攪拌温度が高くなる程飽和磁化値は減少すると考えられる．
そしてpHをパラメータとした場合pH9.0で作成された粒子が最も飽和磁化の値が高く，pH値が高くなる程飽和磁化値は減少していく傾向になることが分かった．これもまた，pH値が高くなる程粒径が小さくなることが原因だと考えられる．pH値が高くなると鉄イオンに比べて塩基が過剰になり，反応が促進される．その結果磁性ナノ粒子の核の数が増加し粒径が小さくなったと考えられる．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１．攪拌温度を変化させて作製した磁性ナノ粒子の磁化特性
図２．PH値を変化させて作製した磁性ナノ粒子の磁化特性
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
MPMSの装置利用の方法を指導してくださった大塚さんに厚く感謝を申し上げます．
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件