【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.03.22】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23AT0293

利用課題名 / Title

アルミナフィルタのALD成膜

利用した実施機関 / Support Institute

産業技術総合研究所 / AIST

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

ALD,ALD

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

田原 慎哉

所属名 / Affiliation

AGC（株）

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

山崎　将嗣,有本　宏

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

AT-031：原子層堆積装置_1[FlexAL]
AT-104：原子層堆積装置_4〔FlexAL〕

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

シリカとチタニアのアルミナメンブレンフィルタへのALD成膜を行った。シリカはフィルタ内部への成膜が確認できたが、チタニアは成膜条件に関わらずフィルタ内部への成膜が確認できなかった。

実験 / Experimental

シリカ成膜用には3DMASをプリカーサーとし、チタニア成膜用にはTTIPまたはTDMATをプリカーサーとしてALD成膜を行った。プラズマALDの酸化剤はO2、サーマルALDの酸化剤はH2Oを用いた。それぞれアルミナメンブレンフィルタに2nm膜厚目標でALD成膜を実施し、割断面をSEM-EDS分析して内部に着膜しているか評価した。

結果と考察 / Results and Discussion

シリカはフィルタ内部までSiを検出し、内部までシリカが成膜されていることを確認した。一方、チタニアはどの成膜条件でもフィルタ内部でTiを検出せず、細孔への成膜をすることはできなかった。メンブレンフィルタへの短時間成膜でシリカはフィルタ内部にSiが検出することができたため、シリカのALD成膜条件の簡易評価には使える可能性があるが、チタニアはこの方法では簡易評価を行うことは困難と考えられる。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

表１　成膜条件と結果一覧

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件